Ｘ線光電子分光法によるウルシ膜の表面構造の解析

ウルシ膜の持つ優れた耐久性を表面構造から検討するためＸ線光電子分光測定を行った。試料損傷の影響がない条件を選び機械的切削法と試料傾斜法を用いて深さ方向分析を行った。その結果、表面はバルクに比べ酸素に対してバリヤー性が高い多糖類が濃縮していることが観測された。又、最表面は疎水性のウルシオール成分で覆われており、ラジカルとの反応性が高いカテコール核が配向していることが推測された。ウルシ膜はこのような表面構造によって耐久性が現れ、酸素などによる劣化を防止していると推測される。